Поделиться
В Китае создан передовой «суверенный» литографический сканер для техпроцесса 28 нм
Китайская SMEE объявила о создании первого литографического сканера, построенного на базе отечественных компонентов и при этом способного выпускать чипы по норме 28 нм. Для полупроводниковой отрасли КНР – это настоящий прорыв, благодаря которому Поднебесная имеет шансы несколько сократить отставание от США в этой сфере, если, конечно, SMEE удастся наладить выпуск этих машин для производства чипов в достаточном количестве.«Прорыв», о котором предпочли не распространяться
Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE), ведущий производитель литографического оборудования в КНР, осуществила «технологический прорыв». По информации Bloomberg, компания создала литографический сканер, который позволяет выпускать интегральные микросхемы по норме 28 нанометров.
Первой о «прорыве» в отечественной отрасли производства полупроводников в WeChat сообщила китайская компания Zhangjiang Group, пользующаяся поддержкой властей КНР, и контролирующая одного из крупнейших акционеров SMEE. Новость вызвала всплеск интереса к ценным бумагам компании, в результате чего котировки акций SMEE на бирже выросли на 8%.
Однако вскоре после этого оригинальное сообщение подверглось редактированию: из него бесследно пропало упоминание о оборудовании для выпуска чипов в соответствии с 28-нанометровым технологическим процессом. Обновленный пост Zhangjiang Group в основном содержал общие слова о стремлении SMEE к созданию передовых литографических машин.
Поспешное внесение правок в первоначальное сообщение способно вызвать недоумение стороннего наблюдателя, поскольку о том, что компания готовится выпустить сканер, соответствующий нормам 28-нанометрового техпроцесса, известно из отраслевых источников по крайней мере с конца лета 2023 г. Сама SMEE, впрочем, тогда сохраняла молчание, не подтверждая, но и не опровергая сведения о подготовке нового продукта.
Важный шаг для SMEE
В августе 2023 г. CNews писал о том, что новая машина получит название SSA/800-10W и ознаменует технологический прорыв SMEE. Для компании это действительно большой шаг вперед, так как все прочие литографические сканеры серии SSA600, которые она выпускала, ограничивались поддержкой «зрелых» техпроцессов: 90 нм, 110 нм и 280 нм.
90-нанометровые чипы, к примеру, до недавних пор широко применялись в автомобилестроении. Лишь острый дефицит полупроводников в период пандемии covid-19 подтолкнул отрасль к началу перехода на нормы 65/55 нм и даже 40 нм, однако этот процесс, по оценке Forbes, может занять еще несколько лет, поэтому 90 нм по-прежнему остаются актуальными.
Неясными остаются перспективы SSA/800-10W. Пока неизвестно, имеет ли SMEE возможности для производства машины в количествах, способных удовлетворить спрос на литграфическое оборудование на внутреннем рынке КНР.
Китай сокращает отставание от США в технологической сфере
На фоне темпов глобального развития полупроводниковой отрасли успехи SMEE могут показаться не слишком выдающимися, ведь и 28 нм – тоже довольно старая топология. Тайваньская TSMC, крупнейший в мире контрактный производитель микросхем, освоил норму 28 нм еще в 2011 г., а главный чипмейкер материкового Китая – SMIC – справилась с этой непростой задачей в 2015 г.
Следует иметь в виду, что обе эти компании использовали готовое литографическое оборудование мирового лидера на этом направлении – нидерландской ASML, тогда как сканер SMEE, по данным источников, на 100% состоит из компонентов, произведенных в Китае. В теории такую аппаратуру компания сможет производить для использования на территории КНР, не оглядываясь на ограничения со стороны США и их партнеров из Нидерландов и Японии. Кроме того, с появлением SSA/800-10W на несколько поколений сокращается отставание КНР от США в полупроводниковой сфере, что, вероятно, должно вызывать обеспокоенность американских чиновников, которые пытаются этому препятствовать на протяжении последних нескольких лет.
Санкции против полупроводниковой отрасли КНР: действуют или нет?
В декабре 2022 г. SMEE была включена Минпромторгом США в так называемый Entity List – черный список компаний и лиц, в отношении которых действуют торговые ограничения. Как отмечает Bloomberg,
ASML также не смогла получить лицензии на поставку в Китай своих EUV-сканеров (EUV – экстремальная ультрафиолетовая литография). В необходимости ограничить экспорт передового литографического оборудования чиновников Нидерландов убедили коллеги из США.
В США также действует запрет на экспорт в КНР технологий и оборудования для производства чипов по нормам 14/16 нм и более современным, флеш-памяти 3D NAND с количеством активных слоев более 127, и динамической памяти DRAM с полушагом менее 18 нм.
Тем не менее, согласно выводам, содержащимся в ежегодном отчете американо-китайской комиссии в сфере экономики и безопасности при Конгрессе США, КНР получала и, возможно, до сих пор продолжает получать оборудование, необходимое для производства передовых чипов, несмотря на разнообразные ограничения. Импортерам из КНР в ряде случаев якобы удается убедить вендоров в том, что приобретаемая аппаратура будет эксплуатироваться в составе производственных линий, выпускающих чипы по «зрелым» технологическим процессам.
Комиссия также обратила внимание на то, что в период с января по август 2023 г. Китай ввез из Нидерландов оборудование для производства полупроводников на сумму $3,2 млрд – на 96,1% больше, чем в аналогичный промежуток времени 2022 г.
Ранее CNews писал о том, что SMIC, пребывающей с 2019 г. в черном списке Минторга США, удалось наладить массовый выпуск микросхем по топологии 14 нм, после чего компания сразу же взялась за освоение норм 7 нм и 5 нм. По мнению экспертов TechInsights, 7-нанометровую технологию выпуска китайцы скопировали у TSMC.
Отметив точечные успехи китайской полупроводниковой промышленности, нельзя не обратить внимание и на некоторые настораживающие тенденции. По данным DigiTimes, за неполные пять лет в КНР прекратили свое существование более 22 тыс. компаний, занятых в отрасли. Причем в одном только еще не завершившемся 2023 г. закрылись рекордные 10,9 тыс. из них.
Аналитики отмечают, что такой исход обусловлен рядом факторов, в том числе американскими санкциями и обострившейся конкурентной борьбой между представителями индустрии внутри КНР.
Короткая ссылка
