Разделы

Цифровизация ИТ в госсекторе Импортонезависимость

Россия выделила полмиллиарда на оборудование для настройки литографов, выпускающих отечественные чипы

Минпромторг выделил почти полмиллиарда на создание оборудования для настройки отечественных литографов. Оно должно быть создано из отечественных материалов и будет готово ко II кварталу 2027 г.

Полмиллиарда на измерения

Минпромторг заказал разработку метрологического оборудования для разработки и настройки литографических установок. Ведомство выделило на это 497,1 млн руб. и опубликовало тендер на опытно-конструкторские работы (ОКР) 2 ноября 2024 г.

Цель ОКР состоит в разработке эталонного комплекса параметров лазерного излучения в ультрафиолетовой области спектра для развития метрологического обеспечения разработки, производства, испытаний и эксплуатации лазерной техники, применяемой в литографическом оборудовании нового поколения, следует из описания объекта закупки.

Работы выполняются в рамках госпрограммы «Научно-технологическое развитие».

Минпромторг не ответил на запрос CNews.

Из чего состоит комплекс

Сам комплекс будет состоять из аппаратуры энергии лазерного излучения на длинах волн 193 и 248 нм, аппаратуры средней мощности энергетических параметров лазерного излучения на длинах волн 193 и 248 нм, а также аппаратуры пространственно-энергетических параметров той же длины волны и единицы длины волны лазерного излучения в ультрафиолетовом спектральном диапазоне.

В России готовится суверенное литографическое оборудование

Оборудование необходимо для воспроизведения и передачи энергетических, спектральных и пространственно-энергетических единиц в ультрафиолетовой области спектра средствам измерений, применяемым при метрологическом обеспечении ультрафиолетовых лазеров в литографическом оборудования при разработке, производстве, испытаниях и эксплуатации.

Комплектующие изделия и материалы должны быть отечественного производства и обеспечивать отсутствие критической зависимости от иностранных производителей. Работы должны быть завершены в конце апреля 2027 г.

При выполнении работы должны соблюдаться требования конфиденциальности сведений, касающихся выполняемой работы и полученных результатов.

Метрологическое оборудование в России

«Заказанное Минпромторгом оборудование, это не совсем метрологическое оборудование — это эталон для поверки технических (а точнее оптических) параметров российских эксимерных лазеров, которые будут использованы в российских установках литографии, — рассказал CNews руководитель департамента электронного машиностроения международного научно-технологического центра (МНТЦ) МИЭТ Яков Петренко. — Эталон нужен для того, чтобы верифицировать заявленные параметры произведенного лазера на заданной длине волны».

«В России есть хороший задел в части финальной метрологии, то есть измерения итоговых параметров готовой микросхемы. В этом разделе есть несколько российских производителей», — продолжил Петренко.

Правительство Амурской области перевело систему электронного документооборота на СУБД Postgres Pro
PostgresPro

По его словам, основные сложности состоят в оборудовании для контроля операций внутри производственного процесса (in-line): это установки контроля привносимой дефектности, металлических загрязнений, контроля совмещения слоев, растровый электронный микроскоп, профилометры, эллипсометры и т.д. «Всего в этой части программы развития электронного машиностроения предусмотрена разработка 15 типов контрольно-измерительного и метрологического оборудования, — подчеркивает Яков Петренко. — Часть разработок уже ведется, в том числе институтами Российской академии наук».

«Оборудование и материалы сегодня на острие мер господдержки, — подчеркивает исполнительный директор АКРП-Консорциум дизайн-центров Вера Смирнова. — Лазерные технологии в России развиваются достаточно активно». Наиболее актуальные ниши измерительного оборудования - это применения в сфере микроэлектроники, печатных плат с учетом развития производственных мощностей по этим переделам, отметила Смирнова.

Напомним, производство российского оборудования для выпуска чипов с топологией 350 нм начнется в 2024 г., а 130 нм — в 2026 г. Такие амбициозные планы озвучил замглавы Минпромторга Василий Шпак. Сейчас оборудование, которое создают белорусский «Планар» и Зеленоградский нанотехнологический центр - фотолитограф (степпер) для изготовления микросхем 350 нм, уже проходит тестирование.

Кристина Холупова