Поделиться
Canon начала масштабное расширение производства литографии, чтобы потягаться с ASML. Впервые за 21 год открыта новая площадка
Впервые за 21 год японская Canon запускает новый завод по выпуску литографического оборудования, увидев возможность побороться с ASML на растущем на фоне бума ИИ рынке за место под солнцем. Производственные мощности вырастут на 50%, инвестиции в площадку оцениваются в $336 млн.Canon расширяет бизнес по производству литографического оборудования
Canon впервые за более чем 20 лет открыла новую площадку по выпуску оборудования для производства интегральных микросхем. Японская корпорация рассчитывает воспользоваться растущим на фоне бума ИИ спросом на интегральные микросхемы и потеснить лидера рынка – нидерландскую ASML, сообщает Nikkei Asia.
Новое предприятие, дополняющее мощности производственного центра компании в Уцуномии (префектура Тотиги, Япония), как ожидается, начнет выпуск литографических систем уже в сентябре 2025 г.
Инвестиции в завод оцениваются в 50 млрд йен (около $336 млн). В эту сумму входят как расходы на строительство, так и на приобретение оборудование с его последующей установкой. Совокупная площадь нового предприятия составляет около 67,5 тыс. м2 и, по оценке Canon, позволит увеличить объемы выпускаемой продукции на 50% от текущего.
Литографические машины – один из ключевых компонентов инфраструктуры для производства интегральных микросхем. Оборудование этого типа позволяет наносить на полупроводниковые пластины «рисунок», формирующий чип. В общем случае, чем меньше по размеру элементы микросхемы и соединения между ними, тем более энергоэффективным и производительным окажется конечный продукт.
На сегодняшний день нидерландская ASML является крупнейшим игроком на рынке литографического оборудования с долей около 90%. Это единственная компания в мире, поставляющая EUV-системы, демонстрирующие наилучшую точность и, таким образом, позволяющие выпускать микрочипы по самым передовым технологическим процессам.
До 2000-х гг. на рынке литографического оборудования царствовали японские компании – Nikon и, собственно, Canon. Однако впоследствии они утратили свои позиции в значительной степени из-за того, что проиграли ASML «гонку за миниатюризацию».
Возможности площадки
На новой площадке будет выпускаться фотолитографическое оборудование, работающее на базе технологии i-line (источником света является ртутная газоразрядная лампа) и KrF-лазера (лазера на основе фторида криптона). Это зрелые технологии, и они подходят для производства микросхем по зрелым техпроцессам.
Как отмечает Nikkei Asia, в недалеком будущем завод начнет производить и системы, работающие по принципу наноимпринтной литографии (NIL), однако на первых порах в основном будут применяться уже давно освоенные и хорошо зарекомендовавшие себя технологии.
В наноимпринтной литографии используется маска (или, скорее, форма), на которую нанесен рисунок микросхемы, который затем непосредственно штампуется на фоторезисте пластины.
В ноябре 2023 г. CNews писал о создании Canon новой NIL-системы, которая позволяет производить чипы по норме 5-нм – одной из самых современных на тот момент. Издание Tom’s Hardware утверждало, что стоить такая машины будет примерно в 10 раз меньше аналогичной производства ASML.
ASML специализируется на DUV- и EUV-системах высокого разрешения. Системы фотолитографии в глубоком (DUV; источник излучения – KrF- и ArF-лазеры) и экстремальном ультрафиолете (EUV; источник излучения – лазерная плазма) проецируют рисунок схемы на полупроводниковую пластину, предварительно обработанную фоторезистом (светочувствительный материал) через особую фотомаску.
В стремлении перекроить рынок
К расширению производственных мощностей на основе не самых совершенных техпроцессов Canon подтолкнул продолжающийся бум технологий искусственного интеллекта. Решение задач в этой сфере требует значительных вычислительных ресурсов, поэтому выпускать соответствующие ускорители лидеры рынка, в том числе Nvidia, предпочитают на заводах по наиболее современным нормам. Альтернатива такому подходу – создание «многослойных» микросхем.
В Canon еще в 2011 г. поняли, что ее фронтенд-оборудование (для «штамповки» микросхем на пластинах) можно также адаптировать и для выполнения некоторых бэкенд-операций (нарезка пластин на отдельные чипы, упаковка и т.д.), в частности, для объединения на одном кристалле нескольких чипов при помощи интерпозера.
Кроме того, в компании решили, что процесс «миниатюризации» в какой-то момент замедлится или полностью остановится, и тогда этот альтернативный подход, который уже освоен Canon, станет гораздо более востребованным, как и ее продукция. ASML же, в свою очередь, делает ставку на постоянное совершенствование фронтенд-оборудования для производства чипов по самым передовым нормам, и пока эта стратегия себя оправдывает.
В июле 2025 г. CNews писал, что Intel может отказаться от перехода на техпроцесс 18А.
По словам Хироаки Такэйси (Hiroaki Takeishi), старшего управляющего директора Canon, компания располагает практически всем необходимым литографическим оборудованием, которое подойдет для обеспечения внутренних процессов крупных производителей интегральных микросхем.
По информации Nikkei Asia, среди клиентов Canon тайваньский полупроводниковый гигант TSMC, которые применяет бекэнд-оборудование японской компании.
В Canon планируют совершенствовать свои продукты на основе обратной связи со стороны клиентов. До конца 2025 г. компания рассчитывает отгрузить 225 литографических систем, на 9% больше, чем за 2024 г. В период с 2015 по 2020 г. японская корпорация продавала по 90 машин в год в среднем.
Конкуренцию на рынке Canon, вероятно, окажет ее ключевой конкурент Nikon, который имеет виды на тот же сегмент рынка, что и Canon, и намерен начать экспансию в 2026 г.
Короткая ссылка
