Поделиться
Intel "пропускает ход" в обновлении производства микросхем
Крупнейший производитель микросхем компания Intel заявила, что не будет закупать новый недавно появившийся инструментарий для литографии микросхем, сомневаясь в перспективах этого оборудования.Intel сообщил, что не планирует переход на так называемую 157-нанометровую технологию литографии и рассчитывает, что используемая 193-нанометровая еще послужит. По крайней мере, до появления оборудования следующего поколения, названного вакуумный ультрафиолет (Extreme Ultraviolet, EUV). Устройства EUV, позволяющие получать более тонкие проводники, чем технология 157 нанометров, сейчас только разрабатываются и вряд ли появятся до конца десятилетия.
Литография используется при проектировании прототипов проводников и транзисторов на кремниевой подложке. Голландская компания ASML, крупнейший в мире производитель оборудования для этих работ и поставщик Intel, сообщила, что решение Intel не стало для нее неожиданностью. ASML рассчитывает, что другие компании, в частности, IBM, закупят новые машины. Первая поставка уже осуществлена - в прошлом месяце 157-нанометровую технологию купил исследовательский центр IMEC.
Хотя после заявления Intel акции ASML упали на 1,7%, аналитики не связывают эти события, объясняя снижение котировок общим трендом акций высокотехнологичных компаний.
До появления EUV Intel планирует модифицировать имеющиеся технологии и начать производить с помощью 193-нанометровых сканеров микросхемы с толщиной проводников до 45 нанометров, что вдвое тоньше, чем сегодня. Для сравнения, это в тысячу раз тоньше человеческого волоса. Что касается EUV, то Intel активно инвестирует в разработку этой технологии, работая совместно как с ASML, так и с ее главными конкурентами - японскими Nikon и Canon.
Источник:
по материалами Reuters
©
Короткая ссылка
