|
Поделиться
Поделиться
Новая технология Motorola позволит уменьшить размер микросхем вдвое
Motorola объявила о созданной ею технологии, позволяющей уменьшить размер существующих микросхем более, чем на 50%. С помощью новых фотомасок, накладываемых на кремниевые пластины при производстве чипов, стало возможным сужение элементов схемы до 100 нанометров и ниже. В настоящее время стандарт нового поколения предусматривает ширину элемента в 157 нанометров. Для сравнения, толщина человеческого волоса составляет около 10000 нанометров.Фотомаски предназначены для технологии с использованием "крайнего ультрафиолета" (EUV - Extreme UltraViolet) - фотолитографии с уменьшенной длиной световой волны. Появление новых микросхем ожидается не ранее 2005 года, а использование новых фотомасок и прототипов EUV-оборудования для создания чипов компания планирует начать в течение следующего года.
По словам Джо Могаба (Joe Mogab), директора Motorola DigitalDNA Laboratories, к моменту начала производства кремниевые пластины станут тоньше - 0,05 микрон вместо современных 0,13 микрон.
 Подробнее об этом читайте в разделе "Главные новости дня" .. >> |
Короткая ссылка
