Трехмерные транзисторы на подходе
Массовое производство сверхмалых транзисторов Intel с трехмерным затвором возможно уже в ближайшем будущем: на днях Intel отчитался об успешно проведенных исследованиях усовершенствованных трехмерных транзисторов. Инженеры Intel рассчитывают, что они станут базовыми элементами будущих микропроцессоров, производимых с использованием 45-30-нанометровых технологий.Кроме того, в Intel разработана методика, позволяющая объединить новые трехмерные транзисторы с другими полупроводниковыми технологиями. «Успешно объединив три ключевых элемента трехмерную геометрию затвора транзистора, диэлектрики „
Напомним, что базовыми элементами микросхем долгое время были планарные транзисторы, которые появились в конце 1950-х годов. Однако по мере развития нанотехнологий, позволяющих создавать транзисторы с элементами, толщина которых составляет всего несколько атомов, то, что раньше воспринималось как «плоское», теперь разрабатывается в трех измерениях для дальнейшего улучшения производительности и энергопотребления микросхем.
Свои разработки по созданию транзисторов с трехмерным затвором Intel представил в 2002 году. Первый трехмерный транзистор проводил на 20% больше тока выборки по сравнению с традиционной планарной конструкцией и аналогичным размером затвора.



