|
Поделиться
Поделиться
Intel намерена перейти на 0,10 микронную технологию производства микросхем в ближайшие 2,5 года
Ежегодная научно-техническая конференция по проблемам сверхвысокой интеграции (2000 Symposium on VLSI Technology), проходящая в Гонолулу, в очередной раз собрала ведущих разработчиков и производителей микросхем. Наряду с такими компаниями как Intel, AMD, Motorola, NEC в конференции приняли участие различные исследовательские лаборатории и университеты. Наибольшее внимание участники уделили обсуждению перспектив развития технологий производства микросхем. Так, Intel заявила, что в планах компании - переход на 0,10 микронную технологию, который станет возможным в течении ближайших 2,5 лет. Ранее считалось, что такие геометрические размеры являются физическим пределом для производства микросхем. Однако, по словам производителей, в настоящее время вполне достижимым считается минимальный геометрический размер в 50 нм.См.также:
- (01.06) Fujitsu представила 0,11 микронную технологию производства специализированных микросхем
- (15.05) UMC представила микросхемы SRAM, произведённые по 0,13 микронной "медной" технологии
- (06.05) NEC открыла первую в мире фабрику для массового производства микросхем по 0,13 микронной технологии
- (17.04) Новая технология производства микросхем от Samsung позволит преодолеть барьер в 0,10 микрон
Короткая ссылка
