Разделы

Infineon вошла в консорциум EUV LLC для разработки новой технологии литографии

Германская Infineon Technologies стала первым европейским членом консорциума EUV LLC (Extreme Ultraviolet Limited Liability Corporation). Консорциум был основан в 1997 году компаниями Intel, Motorola и AMD и занимается совместными разработками в области применения предельных ультрафиолетовых лучей (ПУЛ). Infineon и EUV LLC будут совместно разрабатывать новые методы литографии на основе ПУЛ с длиной волны до 0,13 нм, что позволит создавать микросхемы с меньшим размером геометрии. Напомним, что в настоящее время внедряются установки, работающие на длине волны 193 нм и позволяющие формировать размер геометрии до 0,10 микрона (100 нм).

См.также:
В тренде мультиоблако — изучаем плюсы и минусы
Облака