Поделиться
В России создается целая линия фотолитографии для производства чипов
В стране к концу 2030 г. должна появиться линия фотолитографии, состоящая из комлекса оборудования для производства микроэлектроники. Линия позволит увеличить скорость обработки пластин и уменьшит количество брака.
Кластерная линия фотолитографии
Как выяснил CNews, Минпромторг выделил 2,8 млрд руб. на разработку кластерной линии фотолитографии для изготовления интегральных схем на пластинах диаметром 200 мм. Тендер на эти работы был опубликован на портале госзакупок в конце ноября 2025 г.
Согласно техзаданию, к 31 октября 2030 г. в России должен быть создан опытный образец кластерной линии фотолитографии с концепцией объединения всех операций формирования фоторезистивной маски в едином комплексе. Она предназначена для обработки слоев фоторезиста в субмикронной литографии при изготовлении интегральных схем на пластинах диаметром 200 мм с топологическими нормами до 180-130 нм.
Установка должна обрабатывать не менее 60 пластин в час, следует из техзадания. Срок ее службы не должен быть менее 10 лет.
Что входит в линию
В состав кластерной линии фотолитографии должен будет войти комплекс оборудования: блоки обработки, а также нанесения фоторезиста и антиотражающего покрытия, блоки проявления фоторезиста. Помимо этого, линия будет содержать блок термообработки, модуль загрузки и выгрузки пластин и т.д.
Комплектующие изделия и материалы, которые исполнители
будут использовать, должны быть отечественного производства и обеспечивать
отсутствие критической зависимости от иностранных производителей, подчеркивает
ведомство в техзадании.
Исполнитель также должен будет определить стоимость и сроки освоения серийного производства такой линии с учетом общего состояния рынка потенциальных потребителей.
Шаг к импортонезависимости
«Проект предполагает разработку не самого литографа, а критически важного кластерного комплекса для всех подготовительных и заключительных операций с фоторезистом, — пояснил CNews Александр Тимошенко, глава ООО «Троичные Технологии». — Такая автоматизированная линия, объединяющая нанесение слоев, термообработку и проявление в единый герметичный контур, предназначена для резкого увеличения скорости обработки пластин, чистоты производства и снижения брака».
Главный вызов заключается не в научном прорыве, а в достижении крайне жестких параметров точности и надежности на собственной элементной базе, что определит практическую ценность разработки для российских fabless, предупредил Тимошенко.
«Установка предназначена для нанесения и проявления фоторезиста в литографическом цикле и работает в тесном контакте с фотолитографами, — рассказал CNews руководитель департамента электронного машиностроения МНТЦ МИЭТ Яков Петренко. — В промышленности такие машины называют треками фотолитографии».
По его словам, эта машина является комплиментарной для разрабатываемых в России литографических установок, в том числе литографа для работы с нормами 130 нм, который сейчас разрабатывается.
В целом эта работа позволит сформировать российскую связку «трек+литограф», которая является ядром технологического цикла производства микросхем, заключил Петренко.
Какое оборудование создается
Минпромторг активно публикует работы на создание оборудования для производства чипов с 2023 г. И на отечественные микроэлектронные заводы до 2032 г. поступят 122 российских установки для производства микросхем. Среди них есть установки для переноса изображения на пластину на уровне топологии, установка контроля топологического рисунка фотошаблонов, кластер плазмо-химического травления, установка для выращивания кристаллов Ge и др. Около 70% оборудования и материалов для производства микроэлектроники планируется импортозаместить к 2030 г.
В 2025 г. Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) завершил производство первого отечественного литографа с разрешением 350 нм, предназначенного для изготовления полупроводниковых чипов на российских микроэлектронных предприятиях. Специалисты приступили к разработке следующего поколения литографов с улучшенным разрешением 130 нм.
Однако накануне CNews писал о том, что средств на освоение установок для производства микроэлектроники не хватает. Хотя Минпромторг заверяет, что не собирается отказывать от части работ, которые пока были сдвинуты по срокам из-за недофинансирования.
Короткая ссылка
