23 Мая 2005 10:05 23 Мая 2005 10:05 |

Поделиться

IBM и Toppan разработают фотомаски для изготовления 45-нанометровых чипов

В данный проект обе компании вкладывают около $200 млн. Основные работы будут проводиться на производственных объектах IBM в США.

Обе компании, объединяя свои достижения в данной области, планируют разработать 45-нанотехнологию производства фотомасок к середине 2007 г.

В дальнейшем Toppan перенесет совместно разработанную технологию на свои заводы и наладит собственную производственную систему.

Поделиться

Подписаться на новости Короткая ссылка