Разделы

Цифровизация ИТ в госсекторе Электроника

В России впервые за много лет создадут ионный имплантер!

В России спустя долгое время, благодаря консорциуму предприятий Зеленоградских АО НИИТМ и АО «НИИМЭ», входящих в ГК «Элемент», с участием ИЯФ СО РАН, создают серию установок ионной имплантации для микроэлектронной отрасли. Об этом CNews сообщили представители АО НИИТМ.

Планируемые к созданию установки предназначены для реализации технологии производства приборов МЭ с проектной нормой 90 нм, импортозамещения и замены отечественного оборудования прошлых лет. Ионные имплантеры смогут перекрывать диапазон энергий однозарядных ионов, требуемых в технологии масс (от бора до сурьмы) от 0,2 до 270 килоэлектронвольт (среднетоковая) и от 10 до 1 тыс. килоэлектронвольт (высокоэнергетическая).

На данный момент сотрудники АО НИИТМ с участием ИЯФ СО РАН разработали эскизный проект среднетокового имплантера и приступили к созданию экспериментального образца установки, а также начали разработку высоковольтного имплантера. Первые экспериментальные образцы установок планируют изготовить и испытать на соответствие требованиям технологии в 2025 – 2026 гг.

Взаимный спрос: как рост медтеха в России формирует приток ИТ-специалистов в отрасль
Маркет

Дальнейшее развитие работ предполагает создание опытных образцов и организацию серийного производства отечественных имплантеров, не уступающих по производственным возможностям современным зарубежным, что повысит технологический суверенитет России.

Финансирование создания отечественного оборудования ионной имплантации осуществляется за счет средств Минпромторга России.