Поделиться
NanoMaker - программно-аппаратный комплекс для создания 3D-структур литографией
Компания Interface Ltd. и Институт проблем технологии микроэлектроники и особо чистых материалов Российской академии наук (ИПТМ РАН) объявили о выходе новой версии программно-аппаратного комплекса NanoMaker, предназначенного для подготовки данных и создания 2D- и 3D-структур методами электронной литографии на базе растровых электронных микроскопов. Новая версия продукта может работать практически со всеми типами растровых электронных микроскопов и с установками, использующими фокусированный ионный пучок.Программно-аппаратный комплекс NanoMaker позволяет на практике превращать растровые электронные микроскопы в полноценные литографы и решать задачи проектирования и подготовки данных, выполняемые в настоящее время только промышленными литографами.
Система NanoMaker имеет опыт внедрения и эксплуатации на следующих микроскопах: JEOL JSM-840, BS-300, Phillips SEM 525, на комплексах ZRM-12, ZRM-20, а также на ионных литографах с фокусированным пучком.
NanoMaker позволяет решать комплекс задач, который в совокупности не решается другими компаниями, выпускающими продукты аналогичного класса.
Новая версия включает следующие функции:
- коррекция эффекта близости для плоских и трехмерных структур;
- моделирование эффекта близости и проявления резиста;
- компенсация статических искажений отклоняющей системы ("компенсация дисторсии");
- измерение и активное подавление динамических ошибок отклоняющей системы пучка.
Программно-аппаратный комплекс NanoMaker построен на модульной системе, где каждый модуль имеет свое прикладное назначение. NanoMaker содержит справочную базу данных для оперативного подбора параметров используемых материалов. Интуитивно понятный редактор позволяет проводить проектирование в автономном режиме.
Источник: по материалам компании Interface Ltd..
Короткая ссылка
