Разделы

IBM разработала новую электронно-лучевую технологию для производства микросхем

Технологи корпорации IBM на этой неделе раскроют новые подробности системы производства микросхем следующего поколения, в которой для литографии используются электронные пучки, а не световые волны. Компания полагает, что эта технология в будущем сможет уменьшить размеры микросхем почти до атомных. Новая система, разработанная IBM в сотрудничестве с корпорацией Nikon, вызвала большой интерес в полупроводниковой промышленности после первых известий об этом событии, поскольку традиционные фотолитотграфические системы, по-видимому, достигли своих фундаментальных физических пределов. Системы электронной обработки микросхем разрабатываются уже не один десяток лет, но только в новой системе IBM под названием Prevail (аббревиатура от Projection Reduction Exposure With Variable Axis Immersion Lenses) достигнут существенный прогресс в скорости обработки кремниевых пластины. В системе использован способ управления электронным лучом при помощи ряда магнитных линз, которые создают ту же самую степень разрешения на гранях проекционного поля, что и в центре поля.



37-я международная выставка информационных и коммуникационных технологий Связь-2025 37-я международная выставка информационных и коммуникационных технологий Связь-2025

erid: 2W5zFHRYEHv

Рекламодатель: АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО «ЭКСПОЦЕНТР»

ИНН/ОГРН: 7718033809/1027700167153