Поделиться
Ученые придумали, как сделать чип по технологии 9 нм
Массачусетский технологический университет нашел способ изготовления чипов с топологическим размером элемента 9 нм. Предыдущий рекорд технологии, которая была задействована в эксперименте, составляет 25 нм.Ученые из Массачусетского технологического университета (MIT) сообщают, что нашли способ добиться разрешения в 9 нм для технологии электронно-лучевой литографии, которая рассматривается как одна из альтернатив фотолитографии, широко применяющейся сейчас для производства чипов. Результаты своего исследования они опубликовали в последнем номере журнала Microelectronic Engineering.
Отмечается, что на протяжении 50 лет транзисторы в компьютерных чипах становятся все меньше, и все это время производители полупроводниковых используют одну и ту же технологию – фотолитографию. Но размер транзисторов, выполненных с помощью этой технологии, ограничен длиной волны видимого света.
«Если чипмейкеры рассчитывают продолжить идти в сторону уменьшения, им, вероятно, придется переключиться на другие производственные методы», - говорится в сообщении университета.
В MIT поясняют, что исследователи уже давно используют технику, которая называется электронно-лучевой литографией, чтобы создавать прототипы чипов. Однако обычная литография этого типа гораздо медленней, чем фотолитография. Повышение ее скорости как правило, идет в ущерб разрешению. Так, предыдущий самый маленький чип, созданный на базе электронно-лучевой литографии, обладал топологией в 25 нм, что ненамного лучше показателя в 32 нм, достигнутого с использованием экспериментальной фотолитографии – чипы, созданные с использованием такой технологии уже показывали некоторые производители.
Для того чтобы добиться разрешения в 9 нм ученые MIT подобрали фоторезист (светочувствительный материал), реагирующий на малые дозы электронов, который нанесли более тонким, чем обычно, слоем, чтобы минимизировать разброс электронов. После облучения схему «проявили» в растворе поваренной соли, благодаря чему области, получившие разное количество электронов, выровнялись по характеристикам.
Профессор физики Питер Крют (Pieter Kruit) из технологического университета Делфта в Нидерландах и сооснователь компании Mapper, которая занимается изготовлением литографических систем на базе электронно-лучевой технологии, сомневается, что производители впоследствии используют именно тот фоторезист, который задействовали ученые MIT в своих экспериментах.
«Несмотря на то, что целью ученых было найти фоторезист, реагирующий на малые дозы электронов, тот, что они использовали, является слишком чувствительным», - полагает он.
Короткая ссылка
