Hyundai Electronics создала фоторезистивный полимер для 0,09 микронной технологии

Компания Hyundai Electronics Industries Co., Ltd. сообщает, что ей был разработан фоторезистивный полимер, который может применяться в 0,09 микронном процессе производства микросхем. Фоторезистивный полимер - это специальный состав, который защищает засвеченные (или, в зависимости от типа фоторезиста, незасвеченные) области кристалла от воздействия кислоты, формируя тем самым микроскопический "рисунок" слоя. Новый полимер разрабатывался совместно с Dongjin Semichem Co. Один литр такого полимера будет стоить порядка $2700.