Поделиться
Власти выделили почти 2 миллиарда на замещение химикатов для литографии
Министерство ищет исполнителей для освоения производства собственных материалов для электронно-лучевой и взрывной литографии. Ранее такие компоненты покупались зарубежом.
Два контракта на материалы
Как выяснил CNews, Минпромторг выделил 1,9 млрд руб. на освоение производства материалов для электронно-лучевой и взрывной литографии. Работы по двум тендерам были опубликованы 10 июня 2026 г. на портале госзакупок.
Первый конкурс — на разработку материалов для электронно-лучевой литографии (шифр «СВЧ Резист-1») с начальной ценой 1,017 млрд руб. Второй — на материалы для взрывной литографии (шифр «СВЧ Резист-2») за 889,5 млн руб. Заявки принимаются до 26 июня 2026 г.
Оба контракта предполагают полный цикл работ — от теоретических исследований до освоения серийного производства. Завершить ОКР необходимо до ноября 2029 г.
Что заменят
По контракту «СВЧ Резист-1» разработают 12 типов материалов для электронно-лучевой литографии: резистов серий ПММА 950, ПММА 495, ЭЛРП и ММА. Они должны стать функциональными аналогами продукции немецких Allresist GmbH, Microresist technology GmbH, японской ZEON и американской MicroChem Corporation.
Согласно техническому заданию, годовые объемы производства составят: для резистов серии ПММА — от 8 до 65 кг в зависимости от модификации, для серии ЭЛРП — по 1 кг, для серии ММА — от 10 до 20 кг.
По контракту «СВЧ Резист-2» разработают 7 типов материалов для взрывной литографии (серия ВЛ), которые заменят продукцию американской MicroChem Corporation — серии LOR 5B, LOR 10B, LOR 20B, PMGI SF6, PMGI SF9, PMGI SF11, LOR 5A.
Для материалов взрывной литографии годовые объемы выпуска варьируются от 35 кг (ВЛ-1, ВЛ-3) до 170 кг (ВЛ-5, аналог PMGI SF9). Также в значительных объёмах планируется выпуск ВЛ-6 (аналог PMGI SF11, 90 кг/год) и ВЛ-7 (аналог LOR 5A, 120 кг/год).
Материалы используются при производстве изделий электронной техники, в том числе работающих в СВЧ-диапазоне. «В Российской Федерации отсутствует производство материалов для электронно-лучевой литографии», — прямо указано в документации. Потребности науки и промышленности ранее удовлетворялись за счет импорта из недружественных государств, который сейчас прекращен.
Работы входят в госпрограмму «Научно-технологическое развитие Российской Федерации».
Оборудование и материалы
В документации отдельно прописана возможность разработки специального технологического оборудования, если исполнитель не сможет его приобрести. В этом случае потребуется проектирование, изготовление и испытания собственных станков.
Критические комплектующие и оборудование должны быть российского производства. Использование импортных сырья, материалов и оборудования допускается только по согласованию с заказчиком.
Важный шаг
«Указанные объемы производства выглядят скорее как этап формирования отечественной технологической базы, а не как закрытие всей потенциальной потребности отрасли, — рассказала CNewsдиректор практики «Цифровая трансформация» Strategy Partners Светлана Архипкина. — В литографических материалах важны не только килограммы как таковые, но и стабильность характеристик каждой партии, воспроизводимость процесса и возможность интеграции материала в конкретные технологические маршруты».
По словам Архипкиной, для электронно-лучевой литографии потребление на текущем этапе остается относительно небольшим: это в первую очередь R&D, создание опытных партий, производство фотошаблонов, отдельных компонентов СВЧ-электроники, сенсоров, микромеханики и специализированных микросхем.Основной вызов заключается не столько в обеспечении массы материала, сколько в создании устойчивой цепочки поставок — от синтеза полимеров и очистки до контроля параметров и квалификации на производственных линиях, предупреждает директор практики «Цифровая трансформация» Strategy Partners.
Выделенные 1,9 млрд руб. для такой задачи выглядят как серьёзная стартовая инвестиция, однако производство литографических материалов — это не просто химический синтез. Необходимо обеспечить сверхвысокую чистоту компонентов, стабильность молекулярно-массовых характеристик, специальные системы очистки, аналитическое оборудование, метрологию и длительную процедуру квалификации у потребителей, отметила Архипкина.
«И если же говорить о полном импортозамещении всего спектра материалов для разных поколений микроэлектроники, включая масштабирование до массового производства, скорее всего потребуются дополнительные инвестиции — как в химическое производство, так и в инфраструктуру испытаний и промышленной интеграции», — заключила эксперт.
Что за взрывная литография
Напомним, электронно-лучевая литография — метод создания рисунка на пластине с помощью сфокусированного пучка электронов вместо света. Используется для производства фотошаблонов, СВЧ-приборов и прототипов микросхем, где нужна высокая точность (разрешение до единиц нанометров).
Взрывная литография — метод, при котором сначала на пластину наносят специальный резист (например, LOR), формируют рисунок, затем осаждают металл, а после удаляют резист вместе с лишним металлом («взрывают»).
Электронно-лучевые резисты особенно важны для производства фотошаблонов, исследовательских и опытных партий микросхем, специализированной электроники, СВЧ-компонентов, сенсоров, MEMS-устройств и других изделий, где используются точные топологические структуры, рассказала CNewsдиректор практики «Цифровая трансформация» Strategy Partners Светлана Архипкина.
По ее словам, взрывная литография применяется как вспомогательная технология формирования многоуровневых структур, создания подложек и элементов, где требуется контролируемый профиль резиста. Она востребована в специализированных технологических процессах, включая СВЧ-электронику, силовую электронику и микроэлектромеханические устройства.
Наиболее критично наличие таких материалов для направлений, где невозможно просто перенести производство на другой процесс: фотошаблоны, разработка новых изделий, оборонная и телекоммуникационная электроника, специализированные компоненты.
Импортозамещение материалов
Это не первые тендеры Минпромторга на импортозамещение критических материалов для микроэлектроники. В декабре 2025 г. ведомство запустило сразу десять контрактов на разработку материалов для интегральных схем общей стоимостью около 4 млрд руб. В перечень вошли фтор-смеси, трифторид азота, особо чистый фтороформ, тетрафторметан, фоторезист для контактных окон, цериевая суспензия для щелевой изоляции, фоторезисты для литографии и электролит для формирования медных проводников.
Еще раньше, в марте 2023 г., Минпромторг уже заказывал разработку литографических материалов (фоторезистов) за 1,1 млрд руб.
Таким образом, новые тендеры на резисты для электронно-лучевой и взрывной литографии — это продолжение системной работы ведомства по созданию в России полной цепочки производства материалов для микроэлектроники.
Короткая ссылка
